脉冲激光沉积和热蒸发器系统(Pulsed Laser Deposition & Thermal Evaporator System – PLD-T)

脉冲激光沉积和热蒸发器系统(Pulsed Laser Deposition & Thermal Evaporator System - PLD-T)

多功能脉冲激光沉积和热蒸发器系统,PLD – T,是一种高真空薄膜沉积系统,能够通过脉冲激光沉积和热蒸发技术沉积不同的材料。 只需很少的设置即可将复杂的材料和晶体结构沉积到基板上。

脉冲激光沉积技术可实现有效的非热消融,并保持目标材料的化学计量。 通过应用这种方法,它可以沉积诸如氮化物,氧化物,超晶格,聚合物,复合材料之类的材料。

脉冲激光沉积和热蒸发器系统特征

  • 目标机械手,转速可调
  • 3个热源和特殊的穿通管
  • 石英晶体监测系统,用于实时厚度测量(1 nm精度)
  • 直观的触摸屏可控制涂布过程和快速的数据输入
  • 可通过网络更新的用户友好软件
  • 配备旋转样品架
  • 配备电子快门
  • 配备机动船选择
  • 500°C的基板加热器
  • 两年保修
Pulsed Laser Deposition - PLD-T | VacCoat Product

热蒸发源(船/篮/卷)

PLD – T可以配备三个独立的耐热热蒸发源。 蒸发源支架的良好设计不会导致污染物从源材料转移到其他材料。 光源支架的长度可以在5〜10 cm的范围内调节,以满足客户的要求。

PLD internal of vacuum chamber
PLD internal vacuum chamber
Pulsed Laser Deposition System - PLD-T Inside | VacCoat Product

PLD – T配备了多目标操纵器,其中包括三个直径为2cm的目标。 目标尺寸为标准尺寸。 我们所有的目标机械手都是机动的,包括目标旋转。