Deposition Material Table

 

 Symbol   Melting
Point °C 
  Density (bulk,g/cm3  Z-ratio   Temperature°C @ Vapor Pressure (Torr)   Evaporation   Method   Crucible

Key 
 Boat   Remarks 
 10-4   10-6   10-8
Al 660 2.700 1.080 1,010 821 677 eBeam (Xlnt), Thermal TiB2-BN, ZrB2, BN TiB2,W Alloys and wets. Fill Boat 2/3.
AlSb 1,080 4.3 -- -- -- -- -- -- -- --
AlAs 1,600 3.7 --  ~1,300  -- -- -- -- -- --
AlBr3 97 2.64 -- ~50 -- -- -- Gr Mo --
Al4C3 1,400 2.36 -- ~800 -- -- ebeam (Fair) -- -- n = 2.7
Al2%Cu 640 2.8 -- -- -- -- -- -- -- Wire feed and flash. Difficult from dual sources
AlF3 1,291 2.88 -- 700 490 410  eBeam (Poor)  Gr Mo, W, Ta n = 1.38 @ .55µ
 sublimes  sublimes
AlN -- 3.26 -- ~1,750 -- -- ebeam (Fair) -- -- Decomposes. Reactive
evaporate in 10-3 N2with glow discharge.
sublimes
Al2O3 2,072 3.970  0.336  1,550 --  --  eBeam (Xlnt), sputter --  W Sapphire xlnt in ebeam, forms smooth, hard films. n=1.66
AlP   2,000 --  2,42  --  --  --   -- --  --  -- 
 Al2%Si  640 2.69 --  1,010   -- -- -- TiB2-BN  -- Wire feed and flash. Difficult from dual sources. 
Sb 630 6.68 -- 425 345 279 eBeam (Poor) BN, C, Al2O3 Mo, Ta, Al2O3Coated Toxic. Evaporates well. Film structure is rate-dependent.
sublimes
Sb2Te3 629 6.50 -- 600 -- -- -- C -- Decomposes over 750 ° C
Sb2O3 656 5.2 -- ~300 -- -- eBeam (Good) BN, Al2O3 Pt Toxic. Decomposes on W. n = 2.05
sublimes
Sb2Se3 611 -- -- -- -- -- -- C Ta Stoichiometry variable
Sb2S3 550 4.64 -- ~200 -- -- ebeam (Good) Al2O3 Mo, Ta n = 3.01 @.55µ No Decomposition.
As 817 5.73 -- 210 150 107 eBeam (Poor) Al2O3, BeO, VC C Toxic. Sublimes rapidly at low temerature
sublimes
As2O3 312 3.74 -- -- -- -- -- -- -- --
As2Se3 360 4.75 -- -- -- -- -- Al2O3, Quartz -- n = 2.41 @3.8µ JVST 10, 748(1973)
As2S3 300 3.43 -- ~400 -- -- ebeam (Fair) Al2O3, Quartz Mo n = 2.8 JVST 10, 748(1973)
As2Te3 362 -- -- -- -- -- -- -- Flash JVST 10, 748(1975)
Ba 725 3.51 -- 735 627 545 eBeam (Fair) Metals W, Ta, Mo Wets w/o alloying - reacts with ceramics.
BaCl2 963 3.92 -- ~650 -- -- -- -- Ta, Mo use general preheat to outgas.
BaF2 1,355 4.89 -- ~700 -- -- eBeam (Good) -- Mo n = 1.29 @5µ JVST 21, 2052 (1982) Density Rate Dependent
 sublimes
BaO 1,918 5.72 -- ~1,300 -- -- ebeam (Poor) Al2O3 Pt Decomposes slightly. n = 1.98
BaS 1,200 4.25 -- 1,100 -- -- -- -- Mo n = 2.16
BaTiO3  Decomposes  6.02 -- Decomposes -- -- -- Decomposes, yields free Ba from single source; sputtering preferred; or co-evaporate from 2 sources
Be 1,278 1.85 -- 1,000 878 710 eBeam (Xlnt) BeO, C, VC W, Ta --
Be2C >2,100 1.90 -- ~150 -- -- -- -- -- --
BeCl2 405 1.90 -- ~150 -- -- -- -- -- --
BeF2 800 1.99 -- ~200 -- -- eBeam (Good) -- -- Toxic.
.sublimes­
BeO 2,530 3.01 -- 1,900 -- -- ebeam (Good) -- -- Powders toxic. No decomposition from EB guns. n = 1.72
Bi 271 9.80 -- 520 410 330 eBeam (Xlnt) Al2O3, VC W, Mo, Ta Vapors are toxic. High resistivity. No shorting of baskets.
BiF3 727 5.32 -- ~300 -- -- -- Gr -- n = 1.74 @ 1µ, 1.64 @ 10µ App. Opt. 18, 105 (1979)
.sublimes
Bi2O3 820 8.9 -- ~1400 -- -- ebeam (Poor) -- Pt Vapors are toxic. n = 2.55. JVST 12, 63 (1975)
Bi2Se3 710 7.66 -- ~650 -- -- ebeam (Good) G, Quartz -- Sputtering preferred; co-evaporate from 2 sources.
Bi2Te3 585 7.85 -- ~600 -- -- -- G, Quartz W, Mo Sputtering preferred; co-evaporate from 2 sources.
Bi2Ti2O7 -- -- -- Decomposes -- -- -- Decomposes. Sputtering preferred; or co-evaporate from 2 sources in 10-2O2.
Bi2S3 685 7.39 -- -- -- -- -- -- -- n = 1.5
B 2,079 2.34 0.389 1,797 1,548 1,278 eBeam (Xlnt), sputter C, VC C Material explodes with rapid cooling. Forms carbide with container.
sublimes
B4C 2,350 2.52 -- 2,650 2,580 2,500 ebeam (xlnt) -- -- similar to Chromium.
BN ~3,000 2.25 -- ~1,600 -- -- eBeam (Poor) -- -- Sputtering preferred; Decomposes.
sublimes
B2O3 ~450 1.81 -- ~1,400 -- -- ebeam (Good) -- Pt, Mo n = 1.48
B2S3 310 1.55 -- 800 -- -- -- Gr -- --
Cd 321 8.64 -- 180 120 64 ebeam (Poor) Al2O3, Quartz W, Mo, Ta Poisons vacuum systems, low sticking coefficient.
Cd3 Sb2 456 6.92 -- -- -- -- -- -- -- --
Cd3As2 721 6.21 -- -- -- -- -- Quartz -- --
CdBr2 567 5.19 -- ~300 -- -- -- -- -- --
CdCl2 568 4.05 -- ~400 -- -- -- -- -- --
CdF2 1,100 6.64 -- ~500 -- -- -- -- -- n = 1.56
CdI2 387 5.67 -- ~250 -- -- -- -- -- --
CdO >1,500 6.95 -- ~530 -- -- -- -- -- Disproportionates. n = 2.49
CdSe >1,350 5.81 -- 540 -- -- eBeam (Good) Al2O3, Quartz Mo, Ta Evaporates easily. n = 2.4 @.6µ
sublimes
CdSiO2 -- -- -- ~600 -- -- -- -- -- Disproportionates. n = 1.69
CdS 1,750 4.82 -- 550 -- -- eBeam (Fair) Al2O3, Quartz W, Mo, Ta Sticking Coefficient strongly affected by substrate temperature. Stoichiometry variable. n = 2.4. JVST 12, 188(1975)
sublimes
CdTe 1,121 5.85 -- 450 --       W, Mo, Ta Stoichiometry depends in substrate temperature. n = 2.6.
Ca 839 1.54 -- 459 357 272 eBeam (Poor) Al2O3, Quartz W Corrodes in air.
sublimes
CaF2 1,423 3.18 -- ~1,100 -- -- ebeam (Xlnt) Quartz W, Mo, Ta Rate control important. Use gentle preheat to outgas. n = 1.2-1.4
CaO 2,614 ~3.3 -- ~1700 -- -- -- ZrO2 W, Mo Forms volatile oxides with W and Mo. n = 1.84.
Ca – SiO3 1,540 2.91 -- -- -- -- ebeam(Good) Quartz -- n = 1.61
CaS -- 2.5 -- 1,100 -- -- -- -- Mo Decomposes. n = 2.14
CaTiO3 1,975 4.10 -- 1,690 1,600 1,490 ebeam (Poor) -- --
Disproportionates except in sputtering.
CaWO4 -- 6.06 -- -- -- -- ebeam (Good) -- W n = 1.92
C ~3,652 1.8-2.3 0.220 2,137 1,867 1,657 eBeam (Xlnt), sputter -- -- EB preferred. Arc evaporation. Poor film adhesion. Sublimes. Vitreous carbon n = 1.47
sublimes
Ce 798 ~6.70 -- 1,380 1,150 970 ebeam (Good) Al2O3, BeO, VC W, Ta Films oxidize easily.
CeO2 2,600 7.13 -- 2,310 2,000 1,890 eBeam (Good) -- W Use 250-300° C substrate temperature. n = 2.2 - 2.4. Reacts with W.
sublimes
CeF3 1,460 6.16 -- ~900 -- -- ebeam (Good) -- W, Mo, Ta Use gentle preheat to outgas. n = 1.63@ .55µ
Ce2O3 1,692 6.86 -- -- -- -- ebeam (Fair) -- W Alloys with source; use .015-.020 W boat. n = 1.95
Cs 28 1.88 -- +30 +22 -16 -- Quartz S.S. --
CsBr 636 3.04 -- ~400 -- -- -- -- W n = 1.70
CsCl 645 3.99 -- ~500         W n = 1.64 Hygroscopic
CsF 682 4.12 -- ~500 -- -- -- -- W --
CsOH 272 3.68 -- 550 -- -- -- -- Pt --
CsI 626 4.51 -- ~500 -- -- -- Pt, Quartz W, Pt n = 1.79
 Na5Al3F14  -- 2.9 -- ~800 -- -- -- -- Mo, W n = 1.33
Cr 1,857 7.200 0.305 1,157 977 837 eBeam (Good), Thermal VC W, Cr rod or strip Films very adherent. High rates possible.
sublimes
CrB 2,760 6.17 -- -- -- -- -- -- -- --
CrBr2 842 4.36 -- 550 -- -- -- -- Inconel --
Cr3C2 1,980 6.68 -- ~2,000 -- -- ebeam (Fair) -- W --
CrCl2 824 2.88 -- 550 -- -- -- -- Fe,  Inconel  Sublimes easily.
Cr2O3 2,266 5.21 -- ~2,000 -- -- ebeam (Good) -- W, Mo Disproportionates to lower oxides, reoxidizes @600° C in air. n = 2.4
CrSi2 1,490 5.5 -- -- -- -- -- -- -- --
Cr-SiO Influenced by Composition. Influenced by Composition Influenced by Composition   Influenced by Composition ebeam (Good) -- W Flash
Co 1,495 8.90 -- 1,200 990 850 eBeam (Xlnt) Al2O3, BeO W, Nb Alloys with refractory metals
CoBr2 678 4.91 -- 400 -- -- -- -- Inconel --
sublimes
CoCl2 724 3.36 -- 472 -- -- -- -- Inconel --
sublimes
CoO 1,795 6.45 -- -- -- -- -- -- -- Sputtering preferred.
Cu 1,083 8.920 0.437 1,017 857 727 eBeam (Xlnt),
Thermal
Al2O3, Mo, Ta W, Mo Films do not adhere well. Use intermediate layer, e.g. Chromium. Evaporates from any source material
CuCl 430 4.14 -- ~600 -- -- -- -- -- n = 1.93
Cu2 1,235  6.0  --  ~600 -- --  eBeam (Good), Thermal   Al2O3 Ta   Evaporate in 10-2-10-4of O2; n = 2.70. J. Electrochem. Soc. 110, 119(1967)   
   sublimes
Cu2S   1,100   5.6   --   ~500  --  --    -- --     -- n = 1.45
sublimes
 Na3AlF6  1,000  2.9  --  1,480  1,260  1,020  eBeam (Xlnt)  VC  W, Mo, Ta  Large chunks reduce spitting. Little decomposition. n = 2.34 at 6330A App. Opt. 15, 1969(1976)
 Dy  1,412  8.55  --  900  750  625  ebeam (Good)  --  Ta  --
 Dy F3   1,360   --   --   ~800  --  --  eBeam (Good)  --  Ta  --
   sublimes        
 Dy2O3 2,340   7.81 --   ~1400 --  --  --  --  Ir  Loses Oxygen. 
Er   1,529   9.07    0.740  930  775  650 eBeam (good), Thermal   --   W,Ta    Sublimes 
 sublimes  
 ErF3  1,350 -- -- ~750  --   -- --  --  Mo  JVST A3 (6) 2320 
Er2O3   --  8.64 --  ~1,600   --  -- --  --  Ir  Loses Oxygen. 
 Eu   822  5.24    --  480   360  280 eBeam (Fair)    Al2O3   W,Ta  Low Tantalum solubility.  
   sublimes
 EuF2 1,380   6.5  --  ~950  --  -- --  --  Mo  --
 Eu2O3 --  7.42   --  ~1,600 --   -- ebeam (Good)  ThO2  Ir, Ta, W  Loses Oxygen; films clear and hard. 
 EuS  -- 5.75  --   --  -- --   ebeam (Good)  --  -- -- 
 Gd  1,313  7.90 --  1,175  900  760 ebeam (Xlnt)   Al2O3  Ta High Ta solubility. 
 GdC2  -- --  --   1,500        C   Decompose under sputtering 
Gd2O3   2,330 7.41  --  -- -- -- ebeam (Fair)  --  Ir Loses Oxygen; n = 1.8 @ .55µ 
Ga  30  5.90 -- 907 742 619  ebeam (Good)  Al2O3, BeO, Quartz --  Alloys with refractory metals. Use EB gun. 
GaSb  710  5.6 -- -- -- -- ebeam (Fair)  --  W, Ta   Flash Evaporate.
 GaAs 1,238  5.3   -- -- -- -- ebeam (Good)   C W, Ta   Flash Evaporate. n = 5.64 @ 10.6µ 
 GaN 800  6.1  --   ~200 --  --  Al2O3   -- --  Evaporate Ga in 10-3 N2
Ga2O3 1900 5.88 -- -- -- -- -- -- Pr, W Loses Oxygen.
GaP 1,540 4.1 -- 920 770 -- -- Quartz W, Ta Decomposes vapor mostly P.
Ge 937 5.350 0.516 1,167 957 812 eBeam (Xlnt) Al2O3,
Quartz
W, C, Ta Excellent films from EB sources. Use .040 W. n = 4.01
Ge3N2 450 5.2 -- ~650 -- -- -- -- -- Sputtering preferred.
sublimes
GeO 710 -- -- 500 -- -- -- Quartz -- n : 1.61
GeO2 1,086 6.24 -- ~625 -- -- ebeam(Good) Quartz, Al2O3 Ta, Mo Similar to SiO, film predominantly GeO.
GeTe 725 6.20 -- 381 -- -- -- Quartz, Al2O3 W, Mo --
Glass, Sch0tt -- 2.20 -- -- -- -- ebeam (Xlnt) -- -- Evaporable alkali glass. Melt in air before evaporating. n = 1.47.
Au 1,064 19.320 0.381 1,132 947 807 eBeam (Xlnt), Thermal BN, Al2O3, VC W, Mo, Al2O3 May not adhere well. Films soft.
Hf 2,227 13.31 -- 3,090 2,250 2,160 eBeam (Good) -- -- --
HfB2 3,250 10.5 -- -- -- -- -- -- -- --
HfC ~3,390 12.2 -- ~2,600 -- -- -- - -- --
sublimes
HfN  3,305  --  -- -- -- -- -- -- --  --
 HfO2 2,758   9.68 --   ~2,500 --  --  ebeam (Fair)  --  Film HfO n = 2.0 @ .5µ App. Opt. Apr. 1977 
 HfSi2  1,750 7.2  --   -- --  --  --  --   -- -- 
 Ho 1,474  8.80  --  950  770 650 ebeam (Good)   -- W, Ta   --
sublimes
HoF3 1,143 -- -- ~800 -- -- -- Quartz -- --
Ho2O3 2,370 8.41 -- -- -- -- -- -- Ir Loses Oxygen.
Ni/Cr/Fe 1,425 8.5 -- -- -- -- ebeam (Good) -- W Use fine wire pre-wrapped on W. Low rate req'd. for smooth films.
In 157 7.30 0.841 742 597 487 eBeam (Xlnt) Gr, Al2O3, W Wets W and Cu. use Mo liner in gun.
InSb 535 5.8 -- -- -- -- -- -- W Toxic. Decomposes; sputtering preferred; or co-evaporate from 2 sources; flash. n = 4.3 @ 1µ
InAs 943 5.7 -- 970 870 780 -- -- W Toxic. Sputtering preferred; or co-evaporate from 2 sources; flash. n = 4.5 @ 1µ
InN 1,200 7.0 -- -- -- -- -- -- -- --
In2O ~600 6.99 -- 650 -- -- -- -- -- --
In2O3 850 7.18 -- ~1,200 -- -- ebeam (Good) Al2O3 W, Pt Film In2O; transparent conductor. JVST 12, 99(1975)
sublimes
InP 1,070 4.8 -- 730 630 -- -- Gr W, Ta Deposits P. rich. Flash evaporate.
In2Se3 890 5.67 -- -- -- -- -- -- -- Sputtering preferred; or co-evaporate from 2 sources; flash.
In2S3 1,050 4.90 -- 850 -- -- -- Gr -- Film In2S
sublimes
In2S 653 5.87 -- 650 -- -- -- Gr -- --
InS 692 5.18 -- 650 -- -- -- -- -- --
InTe 696 6.29 -- -- -- -- -- -- -- --
In2Te3 677 5.78 -- -- -- -- -- -- -- Sputtering preferred; or co-evaporate from 2 sources; flash.
In2O3-SnO2 1,800 -- -- -- -- -- -- -- -- --
Ir 2,410 22.42 -- 2,380 2,080 1,850 ebeam (Fair) ThO2 -- --
Fe  1,535  7.860  0.349  1,180   998 858   eBeam (Xlnt) BeO, Al2O3   W Attacks Tungsten. Use gentle preheat to outgas. Films hard, smooth. 
 FeBr2 684   4.64 --   561  -- --  --  Fe  --  -- 
FeCl2   670    3.16  --   300 --  --  --   Fe   --     --
sublimes   
 FeI2 --  5.32  --  400   -- --  --  Fe   -- -- 
 FeO 1,369   5.7 --  --  --  --   ebeam (Poor) --  --  Decomposes; sputtering preferred 
Fe2O3  1,565   5.24  -- --   -- --  ebeam (Good)   --  W Disproportionates at Fe3O4 at 1530° C, n = 3.0 
FeS 1,193 4.74 -- -- -- -- -- Al2O3 -- Decomposes.
FeCrAl -- 7.1 -- -- -- -- -- -- W JVST 7, 739(1980)
La 921 6.15 -- 1,388 1,212 990 ebeam (Xlnt) Al2O3 W, Ta Films will burn in air if Scraped.
LaB6 2,210 2.61 -- -- -- -- ebeam (Good) -- -- --
LaBr3 783 5.06 -- -- -- -- -- -- -- n = 1.94 Hygroscopic
LaF3 1,490 ~6.0 -- 900 -- -- ebeam (Good) -- Ta, Mo No Decomposition. n = 1.59 @ .55µ
sublimes
La2O3 2,307 6.51 -- 1,400 -- -- ebeam (Good) -- W, Ta Loses oxygen. n = 1.9 @ .5µ
Pb 328 11.34 1.130 497 427 342 eBeam (xlnt), Thermal Quartz, Al2O3 W, Mo Toxic. Carefully controlled rates req'd. for superconductors.
PbBr2 373 6.66 -- ~300 -- -- -- -- -- --
PbCl2 501 5.85 -- ~325 -- -- -- Al2O3 Pt Little decomposition. n = 2.2
PbF2 855 8.24 -- ~400 -- -- -- BeO W, Pt, Mo Toxic. n = 1.75 @ .3µ
sublimes
PbI2 402 6.16 -- ~500 -- -- -- Quartz Pt n = 2.7 J.Opt. Soci. 65, 914
PbO 890 9.53 -- ~550 -- -- -- Quartz, Al2O3 Pt No Decomposition. n = 2.55
PbSnO3 1,115 8.1 -- 905 780 670 ebeam (Poor) Al2O3 Pt Disproportionates.
PbSe 1,065 8.10 -- ~500 -- -- -- G, Al2O3 W, Mo --
sublimes
PbS 1,114 7.5 -- 500 -- -- -- Quartz, Al2O3 W Little Decomposition. n = 3.91
sublimes
PbTe 917 8.16 -- 1,050 910 780 -- Gr, Al2O3 Mo, Pt, Ta Vapors toxic. Deposits Te rich. Sputtering preferred, or co-evaporate from sources. n = 5.6 @ 5µ
PbTiO3 -- 7.52 -- -- -- -- -- -- Ta --
Li 179 0.53 -- 407 307 277 ebeam (Good) BeO, Al2O3 Ta, S.S. Metal reacts violently in air.
LiBr 550 3.46 -- ~500 -- -- -- -- Ni n = 1.78
LiCl 613 2.07 -- 400 -- -- -- -- Ni Use gentle preheat for outgas. n = 1.66
LiF 845 2.64 -- 650 530 470 ebeam (Good) Al2O3 Ni, Ta, Mo, W Rate control important for optical films. Use gentle preheat for outgas. n = 1.36. J. Appl. Opt. 11, 2245(1972)
LiI 449 4.08 -- 400 -- -- -- -- Mo, W --
Li2O >1,700 2.01 -- 850 -- -- -- -- Pt, Ir n = 1.64
Lu 1,663 9.84 -- 1,300 -- -- ebeam (Xlnt) Al2O3 Ta --
Lu2O3 -- 9.42 -- 1,400 -- -- -- -- Ir Decomposes.
Mg 649 1.74 -- 327 247 185 ebeam (Good) VC, Al2O3 W, Mo, Ta, Cb Extremely hich rates possible.
sublimes
MgAl2O4 2,135 3.6 -- -- -- -- ebeam (Good) -- -- Natural spinel.
MgBr2 700 3.72 -- ~450 -- -- -- -- Ni Decomposes.
MgCl2 708 2.32 -- 400 -- -- -- -- Ni Decomposes. n = 1.6
MgF2 1,261 2.9-3.2 -- 1,000 -- -- ebeam (Xlnt) Al2O3 Mo, Ta Rate control and substrate heat important for optical films. n = 1.38 J. Appl. Opt. 11, 2245(1972)
MgI2 <637 4.43 -- 200 -- -- -- -- Ir --
MgO 2,852 3.58 -- 1,300 -- -- ebeam (Good) C, Al2O3 -- W produces volatile oxides. n = 1.7 J. Appl. Opt.11, 2243 (1972)
Mn 1,244 7.20 -- 647 572 507 ebeam (Good) BeO, Al2O3 W, Mo, Ta --
sublimes
MnBr2 -- 4.39 -- 500 -- -- -- -- Inconel --
MnCl2 650 2.98 -- 450 -- -- -- -- Inconel --
Mn2O3 1,080 4.50 -- -- -- -- -- -- W --
MnO2 535 5.03 -- -- -- -- ebeam (Poor) W W --
MnS -- 3.99 -- 1,300 -- -- -- -- Mo Decomposes. n = 2.7
Hg -39 13.55 -- -6 -42 -68 -- -- -- --
HgS 548 8.10 -- 250 -- -- -- Al2O3 -- Decomposes.
sublimes
Mo 2,617 10.2 -- 2,117 1,822 1,592 ebeam (Xlnt) -- -- Films smooth, hard. Careful degas req'd.
MoB2 2,100 7.12 -- -- -- -- ebeam (Poor) -- -- --
Mo2C 2,687 8.9 -- -- -- -- ebeam (Fair) -- -- Evaporation of Mo(CO)6 yeilds Mo2C
MoS2 1,185 4.80 -- ~50 -- -- -- -- -- --
MoSi2 2,050 6.31 -- -- -- -- --   W Decomposes.
MoO3 795 4.69 -- ~900 -- -- -- Al2O3, BN Mo, Pt Slight O2 loss. n = 1.9
Nd 1,021 7.01 -- 1,062 871 731 ebeam (Xlnt) Al2O3 Ta Low Ta solubility.
 NdF3 1,410  6.5  --  ~900  --  --  ebeam (Good)   Mo, Ta Mo, W  Very little decomposition. n = 1.61 @.55µ 
 Nd2O3  ~1,900 7.24  --  ~1,400   -- --   ebeam (Good) ThO2   Ta, W  Loses oxygen, films clear, EB preferred. Hygroscopic n = 1.79 n varies with substrate temp.
Ni/Cr  1,395  8.50  0.3258  1,217  987  847   ebeam (Xlnt) Al2O3, VC, BeO  W, Ta   Alloys with refractory metals.
 Ni 1,453   8.910 0.331  927  1,072  927   eBeam (xlnt), Thermal  Al2O3, BeO, VC  W Alloys with refractory metals. Forms smooth adherent films. 
  NiBr2  963   5.10 --    362  -- --  --     -- Inconel --  
   sublimes
  NiCl2   1,001    3.55 --    444 --  --  --     -- Inconel --  
   sublimes
NiO  1,984  6.67  --  ~1,470  --   -- --   Al2O3 --  Dissociates upon heating n = 2.18 
 Nb 2,468  8.57  --  2,287   1,977 1,728  ebeam (Xlnt)   -- Attacks W source. 
NbB2  2,900  6.97  --  --  --  --   -- --  --  -- 
NbC  3,500  7.6  --  --  --  --   ebeam (Fair) --  --  -- 
NbN 2,573 8.4 -- -- -- -- -- -- -- Reactive, evaporate Nb in 10-3 N2.
NbO -- 7,30 -- 1,100 -- -- -- -- Pt --
Nb2O3 1,780 7.5 -- -- -- -- -- -- w --
Nb2O5 1,485 4.47 -- -- -- -- -- -- w n = 1.95
NbTex -- 7.6 - -- -- -- -- -- -- Composition variable.
Nb3Sn -- -- -- -- -- -- ebeam (Xlnt) -- -- Co-evaporate from 2 sources.
Os 3,045 22.84 -- 2,760 2,430 2,170 ebeam (Fair) -- -- --
OsO2 -- -- -- -- -- -- -- -- -- Dcomposed
Pd 1,554 12.02 -- 1,192 992 842 ebeam (Xlnt) Al2O3, BeO W Alloys with refractory metals; rapid evaporation suggested. Spits in EB.
PdO 870 9.70 -- 575 -- -- -- Al2O3 -- Decomposes.
C8H8 300-400 1.1 -- -- -- -- -- -- -- Vapor depositable plastic.
Ni/Fe 1,395 8.7 -- 1,307 1,047 947 ebeam (Good) Al2O3, VC w Film low in Ni content. Use 84% Ni source. JVST Vol. 7, No. 6, p. 573
P 44.1 1.82 -- 402 361 327 -- Al2O3 -- Metal reacts violently in air.
Pt 1,772 21.45 0.245 1,747 1,492 1,292 eBeam (xlnt), Thermal C, ThO2 w Alloys with metals; poor adhesion; films soft
Pu 641 19.84 -- -- -- -- -- -- W Toxic, radioactive
Po 254 9.4 -- 244 170 117 -- Quartz -- Radioactive
K 63 0.86 -- 125 60 23 -- Quartz Mo Metal reacts violently in air. Use gentle preheat to outgas.
KBr 734 2.75 -- ~450 -- -- -- Quartz Mo, Ta Use gentle preheat to outgas. n = 1.56
KCl 780 1.98 -- 510 -- -- ebeam (Good) -- Ta, Ni Use gentle preheat to outgas. n = 1.49
KF 858 2.48 -- ~500 -- -- ebeam (Poor) Quartz -- Use gentle preheat to outgas. n = 1.35
KOH 360 2.04 -- ~400 -- -- -- -- Pt Use gentle preheat to outgas.
KI 681 3.13 -- ~500 -- -- -- -- Ta Use gentle preheat to outgas. n = 1.68
Pr 931 6.77 -- 1,150 950 800 ebeam (Good) -- Ta --
Pr2O3 -- 7.07 -- 1,400 -- -- ebeam (Good) ThO2 Ir Loses oxygen. n = 2.0
Ra 700 5.0 -- 416 320 246 -- -- -- --
Re 3,180 20.53 -- 2,571 2,207 1,928 ebeam (Poor) -- -- Fine wire will self-evaporate.
Re2O3 -- ~7 -- -- -- -- -- -- -- Decomposed
Rh 1,966 12.41 -- 1,707 1,472 1,277 ebeam (Good) ThO2, VC W EB gun preferred.
Rb 39 1.48 -- 111 37 -3 -- Quartz -- --
RbCl 718 2.09 -- ~550 -- -- -- Quartz -- n = 1.49
RbI 647 3.55 -- ~400 -- -- -- Quartz -- --
Ru 2,310 12.3 -- 2,260 1,900 1,780 ebeam (Poor) -- -- Splits violently in EB. Requires degas.
Sm 1,074 7.52 -- 573 460 373 ebeam (Good) Al2O3 Ta --

 

 Sm2O3  2,350 8.35  --   --  --  --  ebeam (Good)  ThO2  Ir  Loses O2. Films smooth, clear.
 Sm2S3  1,900 5.73  --  --  --  --   ebeam (Good)  --  --  AIP conf. Proc. on Mag. & Mag. Mat. B, 5, 860 (1971)
 Sc 1,541  2.99  --  1,002  837  714   ebeam (Xlnt)  Al2O3, BeO  w  Alloys with Ta
 Sc2O3 2,300  3.86  --  ~400  --  --   ebeam (Fair)  --  --  Loses Oxygen. n = 1.88 @ .5µ
 Se 217  4. 81 --  170  125  89   ebeam (Good)  Al2O3, VC  W, Mo  Toxic. Poisons vacuum systems. JVST 9, 387 (1972); 12, 573 & 807 (1975)
 Si 1,410  2.32  0.712  1,337  1,147  992   eBeam (Fair), sputter  BeO, Ta, VC  W, Ta  Alloys with W; use heavy W boat. SiO produced above 4x10-6 Torr. EB best. n = 3.42 App. Opt. 15, 2348 (1976)
 SiB6 --  2.47  --  --  --  --   ebeam (Poor)  --  --  --
 SiC ~2,700  3.22  --  1,000  --  --   --  --  --  Sputtering preferred.
 SiO2 1,600  2.65  --  ~1025  --  --  eBeam (Xlnt), sputter  Al2O3  --  Quartz excellent in EB. n = 1.47
Influenced by composition
SiO >1,702 2.13 -- 850 -- -- eBeam (Fair) Ta W, Ta Baffle box source best for resistance evaporation. Low rate suggested. n = 1.6.
sublimes
Si3N4 1,900 3.44 -- ~800 -- -- eBeam, sputter -- -- n = 2.1
SiSe -- -- -- 550 -- -- -- Quartz -- --
SiS 940 1.85 -- 450 ---- -- -- Quartz -- --
SiTe2 -- 4.39 -- 550 -- -- -- Quartz -- --
Ag 962 10.5 0.529 820 690 570 eBeam (xlnt), Thermal Al2O3, Mo Mo, Ta Evaporates well from any source.
AgBr 432 6.47 -- ~380 -- -- -- Quartz Ta n = 2.25
AgCl 455 5.56 -- ~520 -- -- -- Quartz Mo, Pt n = 2.07
AgI 558 6.01 -- ~500 -- -- -- -- Ta n = 2.21
Na 98 0.97 -- 192 124 74 -- Quartz Ta, S.S. Use gentle preheat to outgas. Metal reacts violently in air.
NaBr 747 3.20 -- ~400 -- -- -- Quartz -- Use gentle preheat to outgas. n = 1.64
NaCl 801 2.17 -- 530 -- -- ebeam (Good) Quartz Ta, Mo, W Cu ovens, little decomposition. Use gentle preheat to outgas. n = 1.54
NaCN 564 -- -- ~550 -- -- -- -- Ag Use gentle preheat to outgas. n = 1.45
NaF 993 2.56 -- ~1,000 -- -- ebeam (Good) BeO Mo, Ta, W Use gentle preheat to outgas. No decomposition n = 1.30 @ .55µ
NaOH 318 2.13 -- ~470 -- -- -- -- Pt Use gentle preheat to outgas. n = 1.36
MgO3
5Al2O3
-- 8.0 -- -- -- -- ebeam (Good) -- -- n = 1.72
Sr 769 2.6 -- 403 309 239 ebeam (Poor) VC W, Ta, Mo Wets but does not alloy with refractory metals. May react violently in air.
SrF2 1.473 4.24 -- ~1,000 -- -- -- Al2O3 -- n = 1.44
SrO 2,430 4.7 -- 1,500 -- -- -- Al2O3 Mo Reacts with Mo, and W; n = 1.87
sublimes
SrS Above
>2,000
3.70 -- -- -- -- -- -- Mo Decomposes. n = 2.11
S 113 2.07 -- 57 19 13 ebeam (Poor) Quartz W Poisons vacuum system.
Ni/Fe/Mo 1,410 8.9 -- -- -- -- ebeam (Good) -- -- Sputtering preferred; co-evaporate from 2 sources, Permalloy and Mo.
Ta 2,996 16.6 -- 2,590 2,240 1,960 ebeam (Xlnt) -- -- Forms good films.
TaB2 3,000 11.15 -- -- -- -- -- -- -- --
TaC 3,880 13.9 -- ~2,500 -- -- -- -- -- JVST 12, 811 (1975)
TaN 3,360 16.30 -- -- -- -- -- -- -- Reactive; evaporate Ta in 10-3N2.
Ta2O5 1,872 8.2 -- 1,920 1,780 1,550 ebeam (Good) VC W, Ta Slight decomposition; evaporate in 10-3 Torr of O2. n = 2.0 @ 1.5µ App. Opt. 19, 1737 (1980)
TaS2 >1,300 -- -- -- -- -- -- -- -- --
Tc 2,200 11.5 -- 2,090 1,800 1,570 -- -- -- --
PTFE 330 2.9 -- -- -- -- -- -- W Baffled source. Film structure doubtful.
Te 449 6.25 -- 277 207 157 ebeam (Poor) Al2O3, Quartz W, Ta Wets without alloying. Toxic.
Tb 1,356 8.23 -- 1,150 950 800 ebeam (Xlnt) Al2O3 Ta --
TbF3 1,172 -- -- ~800 -- -- -- -- -- --
Tb2O3 2,387 7.87 -- 1,300 -- -- -- -- Ir Partially decomposes.
Tb4O7 -- -- -- -- -- -- -- -- Ta Films TbO.
Tl 304 11.85 -- 470 360 280 ebeam (Poor) Al2O3, Quartz W, Ta Wets freely, very Toxic
TlBr 480 7.56 -- ~250 -- -- -- Quartz Ta Toxic n = 2.3
sublimes
TlCl 430 7.00 -- ~150 -- -- -- Quartz Ta Toxic n = 2.25
sublimes
TlI 440 7.1 -- ~250 -- -- -- Quartz -- Toxic n = 2.78
sublimes
Tl2O2 717 9.65 -- 350 -- -- -- -- -- Toxic, Goes to Tl2O @ 850° C.
Th 1,750 11.7 -- 1,925 1,660 1,430 ebeam (Xlnt) W W, Ta, Mo Toxic, radioactive.
ThBr4   610 5.67   --  --  --  --   --   --   Mo   Toxic n = 2.47 @ 5µ
   sublimes
ThC2  2,655  8.96  --  ~2,300  --  --  --  Carbon  --  Radioactive.
ThO2 3,220   9.86  --  ~2,100  --  --  ebeam (Good)  --  --  Radioactive. n = 1.86 @ 2.2µ
ThF4 >900   6.32  --  ~750  --  --  ebeam (Fair)  VC  Mo  Radioactive. n = 1.52 Heat substrate to above 150° C. JVST 12, 919, (1975)
 ThOF2 900   9.1  --  --  --  --  --  --  Mo, Ta  Radioactive. n = 1.52
  ThS2 1.925   7.30  --  --  --  --  --  --  --  Sputtering preferred; co-evaporate from 2 sources.
 Tm  1,545     9.32   --  680 554   461   ebeam (Good)   Al2O3   Ta   --
sublimes
 Tm2O3  --  8.90  --  1,500  --  --  --  --  Ir  Decomposes.
 Sn 232   7.28  0.724  997  807  682  eBeam (Xlnt), Thermal  Al2O3, Ta  Mo  Wets Mo; use Ta liner in EB guns.
 SnO2    1,630 6.95    --   ~1,000  --  --   ebeam (Xlnt)   Al2O3, Quartz   W   Films from W oxygen deficient, oxidize in air. n = 2.0
   sublimes
 SnSe  861  6.18  --  ~400  -- --  ebeam (Good)  Quartz  --  JVST 12, 110 (1975)
 SnS 882   5.22  --  ~450  --  --  --  Quartz  --  --
 SnTe 780   6.48  --  ~450  --  --  --  Quartz  --  --
 Ti  1,660  4.50  0.628  1,453  1,235  1,067  eBeam (Xlnt), Thermal  TiC  W  Alloys with refractory metals. Evolves gas on first heating.
 TiB2 2,900  4.50  --  --  --  --   ebeam (Poor)  --  --  --
 TiC 3,140  4.93 --  ~2,300  --  --   --  --  --  JVST 12, 851, (1975)
 TiO2 1,830   4.26 --  ~1,300  --  --   ebeam (Fair)  --  W, Mo  Evaporate in 10-4 of O2 onto 350° substrates. n = 2.4 App. Opt. 15, 2986 (1976)
 TiO 1,750  4.93  --  ~1,500  --  --   ebeam (Good)  VC  W, Mo  Use gentle preheat to outgas. Films TiO2 if evaporated like TiO2; n= 2.2
 TiN 2,930  5.22  --  --  --   --  ebeam (Good)  --  Mo  Sputtering preferred. Decomposes with thermal evaporation.
 Ti2O3 2,130  4.6  --  --  --  --   ebeam (Good)  --  W  Decomposes.
 W 3,410  19.30  0.163  2,757  2,407  2,117   eBeam (good), Thermal  --  --  Forms violate oxides. Films hard & adherent.
 WB2 2,900  10.77  --  --  --  --   eBeam (Poor)  --  --  --
 W2C 2,860  17.15  --  2,120  1,720  1,480   eBeam (Xlnt)  --  C  --
 WS2 1,250  7.5  --  --  --  --   --  --  --  Decomposes
WTe2 -- 9.49 -- -- -- -- -- Quartz -- --
WO3 1,473 7.16 -- 980 -- -- ebeam (Good) -- W, Pt Use gentle preheat to outgas. W reduces oxides slightly. n = 1.68
sublimes
WSe2 -- 9.0 -- -- -- -- -- -- -- --
U 1,132 19.05 -- 1,582 1,327 1,132 eBeam (Good) -- W, Mo Films oxidize.
UC2 2,350 11.28 -- 2,100 -- -- -- Carbon -- Decomposes.
UO2 2,878 10.96 -- -- -- -- -- -- W Ta causes decomposition
UF4 960 6.7 -- -- -- -- -- -- W --
UP2 -- 8.57 -- 1,200 -- -- -- -- Ta Decomposes.
US >2,000, 10.87 -- -- -- -- -- -- -- Slight decomposition
V 1,890 5.96 -- 1,547 1,332 1,162 eBeam (Xlnt) -- W, Mo Wets Mo. EB evaporated films preferred.
VB2 2,400 5.10 -- -- -- -- -- -- -- --
VC 2,810 5.77 -- ~1,800 -- -- -- -- -- --
VO2 1,967 4.34 -- ~575 -- -- -- -- -- Deposit metal in 1 X 10-3O2 JVST A2(2) 301 (1984)
sublimes
VN 2,320 6.13 -- -- -- -- -- -- -- --
V2O5 690 3.36 -- ~500 -- -- -- Quartz -- --
VSi2 1,700 4.42 -- -- -- -- -- -- -- --
Yb 824 6.96 -- 690 590 520 ebeam (Good) -- Ta --
sublimes
YbF3 1,157 -- -- ~800 -- -- -- -- Mo n = 1.57 @3.8µ
Yb2O3 2,346 9.17 -- ~1500 -- -- -- -- Ir Loses Oxygen.
sublimes
Y 1,522 4.47 -- 1,157 973 830 ebeam (Xlnt) Al2O3 W, Ta High Ta solubility
Y3Al5O12 1,990 -- -- -- -- -- ebeam (Good) -- W Films not terroelectric.
YF3 1,387 4.01 -- -- -- -- -- -- -- --
Y2O3 2,410 5.01 -- ~2000 -- -- ebeam (Good) C W Loses Oxygen. films smooth and clear. n = 1.79 @ 1µ
.sublimes
Zn 420 7.14 0.514 250 177 127 eBeam (Xlnt), Thermal Al2O3, Quartz Mo, W, Ta Evaporates well under wide range of conditions.
Zn3Sb2 570 6.33 -- -- -- -- -- -- -- --
ZnBr2 394 4.20 -- ~300 -- -- -- C W Decomposes.
ZnF2 872 4.95 -- ~800 -- -- -- Quartz Pt, Ta --
Zn3N2 -- 6.22 -- Decomposes -- -- Mo Decomposes.
ZnO 1,975 5.61 -- ~1,800 -- -- ebeam (Fair) -- -- Anneal in air at 450° C to reoxidize; n = 2.0 JVST 12, 879 (1975)
ZnSe 1,100 5.42 -- 660 -- -- -- Quartz Mo, W, Ta Use gentle preheat to outgas. Evaporates well n = 2.6.
ZnS 1,700 3.98 -- ~800 -- -- ebeam (Good) -- Ta, Mo Use gentle preheat to outgas. Films partially decompose. Sticking coefficient varies with substrate temperature. n = 2.3 @ .5µ
sublimes
ZnTe 1,239 6.34 -- ~600 -- -- ebeam (Fair) -- Mo, Ta Use gentle preheat to outgas. n = 2.85 @ .5µ
ZrSiO4 2,550 4.56 -- -- -- -- -- -- -- --
Zr 1,852 6.49 -- 1,987 1,702 1,477 eBeam (Xlnt) -- W Alloys with W. Films oxidize readily.
ZrB2 3,200 6.09 -- -- -- -- ebeam (Good) -- -- --
ZrC 3,540 6.73 -- ~2,500 -- -- -- -- -- --
ZrN 2,980 7.09 -- -- -- -- -- -- -- Reactively evaporate in 10-3N2 atmosphere.
ZrO2 2,700 5.89 -- ~2,200 -- -- ebeam (Good) -- W Films oxygen deficient, clear and hard. n = 2.05 @.75µ
ZrSi2 1,700 4.88 -- -- -- -- -- -- -- --